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5招教你改善單晶硅太陽電池PECVD設(shè)備鍍膜均勻性

發(fā)布時(shí)間:2019-11-14 點(diǎn)擊次數(shù):4403

單晶硅太陽電池PECVD設(shè)備鍍膜均勻性的細(xì)節(jié)因素可從以下5個(gè)方面改善

1.適當(dāng)?shù)慕档湾兡み^程中反應(yīng)壓力有助于改善鍍膜均勻性,

2.適當(dāng)增加工藝沉積前的恒溫時(shí)間、控制絨面的均勻性同樣有助于改善鍍膜均勻性,

3.腔體內(nèi)部及特氣進(jìn)氣孔的清潔保養(yǎng)及時(shí)性同樣可提升單晶硅太陽電池PECVD鍍膜均勻性,

4.降低石墨舟表面粗糙度同樣可改善鍍膜均勻性。

5.選擇在爐腔壓力1200mtorr、恒溫時(shí)間5min、降低石墨舟表面粗糙度,搭配絨面差異小的硅片,

做好這些對(duì)鍍膜均勻性改善可以有非常好的效果


PECVD鍍膜技術(shù)原理:是利用低溫等離子體作能量源,樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預(yù)定的溫度,然后通入適量的反應(yīng)氣體,氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)在樣品表面形成固態(tài)薄膜

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